台股23日金马年新春开红盘，指数再度改写新猷，盘面个股涨多跌少。其中，台特化（4772）股价大涨超过半根停板，终止1月中旬以来的颓势，颇有蓄势发动新一波多头攻势的迹象，表现相当亮丽抢眼。
法人指出，2奈米制程正式导入GAA架构，带动对于薄膜沉积精准度的要求，在技术门槛提高下，原子层沉积（ALD）技术成为关键的制程工具。其中，前驱物（Precursor）不只是材料来源，更是整个薄膜沉积制程的关键核心。
半导体特殊气体龙头台厂台特化，过去在CVD矽烷类特殊气体领域已建立稳固市占与客户基础，公司顺势将技术与纯化能力延伸至更高技术门槛的ALD前驱物市场，并计划将于2027年后逐渐放量。
由于过去全球ALD前驱物市场长期由欧美与日本大型材料厂主导，如Air Liquide、Linde、Entegris等欧美厂商长年握有大宗市场份额。台特化成功介入后，将大举分食长期由欧美与日本主导的市场，营运前景备受法人看俏。
在利多激励下，台特化股价23日开高收高，终场上涨20.5元、收328元，涨幅6.67%，一举扭转1月中旬以来的颓势；目前法人圈已有越来越多的投顾机构给予400元以上的目标价，其中尤以群益投顾上看447元最高。
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