外媒报导上海爱晟纳电子科技集团在中国大陆官方支持下，启动深紫外光（DUV）微影设备生产，若成功量产可能影响ASML的销售。法人分析，短期内，对ASML实质业绩影响微乎其微，但长期来说，ASML在中国成熟制程市场的优势将遭渐式吞噬。ASML股价连日重挫，与投资人对「垄断地位破裂」的情绪性反应。

针对中国自制DUV量产消息对半导体产业冲击，法人初步分析，中国自产DUV目前初期年产能仅约5台，明年可望提升至20～30台，且在技术性能、良率与可靠度上仍显著落后ASML。

相较之下，ASML单年DUV产能高达130台，技术实力与量产规模短期内无人能及；且ASML近年中国市场营收占比已由2024年的41%降至近期约14%，短期内此事件对ASML的实质业绩影响微乎其微，股价暴跌主因是投资人对「垄断地位破裂」的情绪性反应。

不过，长期而言，法人认为ASML在中国成熟制程市场的独占优势将被中国本土设备渐进式吞噬，市场态势出现结构性的变化。

法人指出，中国自产DUV的影响可分DUV使用者与DUV设备供应商两方面分析。使用DUV制造的成熟制程（28nm以上）以及规格较不苛求细致线宽的记忆体，如DDR4/DDR5、NAND Flash，预计基本面发生的时间点最快在2028年过后，因为2027年机台产出后仍需调校时间。

美日欧半导体设备商如Applied Materials、Lam Research、KLA及TEL等，若中国晶圆厂开始全面转向采购国产替代设备，中国市场订单将转趋萎缩。

针对台湾设备厂受影响程度评估方面，法人表示，台湾半导体设备与耗材龙头，例如光罩载具、先进封装/CoWoS 设备、高阶厂务厂商等，主要营运动能绑定台积电等大厂的先进制程（EUV/2nm/3nm）及 HBM/AI 晶片，中国国产DUV仅能用于成熟制程，完全无法触及EUV技术领域，对台湾先进制程设备供应链无实质威胁。

对于成熟制程代理商则有潜在压力，法人指出，少数以成熟制程晶圆厂如联电、力积电，或中国晶圆厂为主要客户的设备代理商与厂务维修业者，长线可能面临中国客户转向本土设备商的订单流失风险。