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华钼强攻半导体材料

时间:2026-10-05 15:22 来源:未知 浏览: 次

华钼(6990)高纯钼材料,强攻半导体。董事长王大介表示,公司目前高纯氧化钼纯度已达3N(99.9%),正持续朝4N(99.99%)推进,后续更将挑战「五个9」的5N(99.999%)超高纯度规格,产品应用将跨入电子级与半导体领域。

华钼既有本业同步升温。受惠国际钼价上扬及出货动能增温,8月合并营收2.23亿元,月增24.8%、年增122.2%,连续七个月年增,并创单月历史新高;累计前八月营收13.52亿元、年增80.7%,已超越去年全年12.65亿元。法人预期,第3季营收可望优于上季及去年同期,全年营收有机会挑战历史新高。

王大介指出,华钼目前以生产高纯氧化钼为主,纯度已达3N,下一阶段将提升至4N,并送交国外供应商进行化学及物理验测,待验证通过后,即可进一步拓展国际市场;在4N规格站稳后,公司也将持续朝5N超高纯度规格迈进,拉高产品技术门槛与附加价值。

随半导体制程持续微缩,新材料应用受到关注,钼也逐步由传统特殊钢、不锈钢及高温合金的重要添加元素,向电子及半导体材料延伸。华钼表示,公司生产的钼纯度正朝「五个9」电子级应用挺进,未来若能完成高纯度产品验证,将有机会进一步跨入高阶电子材料供应链。

半导体应用方面,王大介表示,目前包括二硫化钼、二氯二氧化钼等潜在半导体原料,仍处于产业研发与技术探讨阶段,尚未真正大量应用于1奈米以下制程。以华钼而言,未来可运用既有高纯氧化钼为基础,透过化学合成并与研发团队合作,进行二硫化钼相关研发与测试,加速产品验证与应用落地。

近期二硫化钼在先进半导体领域受到高度关注。台积电与阳明交大团队日前成功开发高效能单层二硫化钼顶闸极电晶体,研究成果并刊登于《Nature Electronics》,市场也因此重新聚焦二硫化钼作为矽材料持续微缩后的新型通道材料潜力。


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